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예약담당관 :

  • 권일경
  • ticket@nfec.go.kr
  • 042-865-3586

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54,436 점의 공동활용장비가 있습니다.

  • 매뉴얼 스핀 코터(Manual Spin Coater)
    매뉴얼 스핀 코터
    이용안내
    티에프테크(TFT-Manual Coater)
    매뉴얼 스핀 코터 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : 티에프테크  (TFT-Manual Coater)
    • 이용료 : 서비스 의뢰시 10,000/회 직접 사용시 5,000/30분
    • 활용예 : PR Coating. Polymer Coating
    PR, Polymer 등의 점성용액을 스핀 코팅하는 장치임. : Si-based semiconductor device fabrication(MOSFET, CMOS, PMOS, NMOS, MOS capacitor, Diode, MIM capacitor, Resistor...
  • 급속 열처리장치(RTP)
    급속 열처리장치
    이용안내
    AST(SHS 200MA)
    급속 열처리장치 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : AST  (SHS 200MA)
    • 이용료 : 서비스의뢰시 80,000/회 직접사용시 40,000/30분
    • 활용예 : 반도체공정, 열처리공정함.
    Lamp heating시간이 짧음 : 1sec/100℃ heating temp : 500℃~1000℃(max1100℃) Wafer size : 6"까지 가능
  • 스퍼터3(sputter3)
    스퍼터3
    이용안내
    한국진공(개발장비)
    스퍼터3 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : 한국진공  (개발장비)
    • 이용료 : -.서비스 의뢰시 (기본2000A)60,000/회 + 60,000/200nm -.직접사용시 (기본2000A)30,000/시간 -.shield교체비(타겟교체시에만 부과)
    • 활용예 : 반도체 공정, 박막 공정 가능함.
    D.C/R.F Magnetron Sputter 사용목적: 금속 박막 증착 사용기판: 조각~6인치 웨이퍼 증착물질: Al, Ti, TiN, Ni (N2, reactive sputter 가능) 타겟(6인치) 구매시 증착 물질 변경 가능함.
  • 엘피씨브이디 폴리(LPCVD(Poly))
    엘피씨브이디 폴리
    이용안내
    성진세미텍(SJF1000LP)
    엘피씨브이디 폴리 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : 성진세미텍  (SJF1000LP)
    • 이용료 : -.서비스 의뢰시 (기본 500nm) 350,000/회+ 40,000/100nm (기본 3000A) 500,000/회(a-Si)+ 80,000/100nm
    • 활용예 : Poly-Si, amorphous Si, n-doped Si deposition
    Horizontal type의 batch process용 LPCVD : Si-based semiconductor device fabrication(MOSFET, CMOS, PMOS, NMOS, MOS capacitor, Resistor, etc) : Microel...
  • 스퍼터2(Sputter2)
    스퍼터2
    이용안내
    한국진공(개발장비)
    스퍼터2 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : 한국진공  (개발장비)
    • 이용료 : -.서비스 의뢰시 60,000/회(기본 2000A) -.직접사용시 30,000/시간(기본 2000A) -.추가 재료비(pt,Au) 60,000/500A shield교체비(타겟교체요청시에만 부과)
    • 활용예 : deposition
    D.C/R.F Magnetron Sputter 사용목적: 금속 박막 증착 가능함. 사용기판: 조각~4인치 웨이퍼, 6인치 웨이퍼는 개별문의 필요함. 증착물질: Pt, Au, Ni, Ta, Cr등 (Pt, Au 등 고가타겟은 재료비별도, 개별문의바람), 타겟(3인치...
  • 스퍼터1(sputter1)
    스퍼터1
    이용안내
    한국진공(KVS-T8860)
    스퍼터1 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : 한국진공  (KVS-T8860)
    • 이용료 : -. 서비스 의뢰시 60,000/시간 -. 직접사용시 30,000/시간 -. shield교체비(타겟교체시에만 부과)
    • 활용예 : 박막 공정 기술임.
    R.F전용 Magnetron Sputter 사용목적: 반도체, 부도체 박막 증착 가능함. 사용기판: 조각~6인치 웨이퍼 사용함. 증착물질: SiO2, Al2O3, Ge, GST 등 (GST는 개별문의바람), 타겟(3인치) 구매시 증착 물질 변경 가능함.
  • 마스크 얼라이너(Mask Aligner)
    마스크 얼라이너
    이용안내
    Suss Micro Tec(MA6)
    마스크 얼라이너 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : Suss Micro Tec  (MA6)
    • 이용료 : -.서비스 의뢰시 40,000/회 -.직접사용시 20,000/30분
    • 활용예 : AZ1512 등 positive/negative PR을 이용한 photo lithography
    Alignment system Power : 230V/50/60Hz, - X, Y,Z, Theta alignment Alignment gap : 0~300micron Resolution : 1 micron i-line/g-line Configuratio...
  • 산 웹 스테이션(Acid Wet Station)
    산 웹 스테이션
    이용안내
    두리텍(Acid wet station)
    산 웹 스테이션 대표 이미지
    • 제작사(모델명) : 두리텍  (Acid wet station)
    • 이용료 : -.서비스의뢰시 120,000/회 소용량/60,000/회 _.직접사용시 60,000/2hour 소용량/30,000/시간
    • 활용예 : RCA cleaning (SPM+APM+HF/BOE) thin film (metal, oxide, Si, III-V, etc) wet etching
    Controller : PLC & S/W control pan Recipe Load : Max 20 ea recipe& (Max 40 steps per price) Wafer Size : 150 mm wafer (조각 ...
  • 튜브 전기로(Tube furnace)
    튜브 전기로
    이용안내
    대흥과학(DTF-60300-11BPTF type)
    튜브 전기로 대표 이미지
    • 5.0
    • (주)세라컴
    • 041-531-0657
    • 이용료 : 
    Tube furnace 1. AIR-1 (flow meter) 2. N2, H2 (flow meter) 3. Working Temperature : 400~1000℃) 4. blank 시험DIMENSION 1. INSIDE :60 X 25T 2.HEATI...
  • 고온 진공로(Vacuum Furnace)
    고온 진공로
    이용안내
    정민실업(JM-HVF-1700)
    고온 진공로 대표 이미지
    본 장비는 진공 소결용으로 진공 분위기에서 승온이 가능한 전기저항식 진공로이며 고온 단열용 graphite 단열재와 고온용 graphite heater로 발열체를 사용하는 장비임.1) Hot zone size : 200x200x250mm 2) Temperature :...
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